ベンチャー企業のFLOSFIAは、京都大学が開発した薄膜形成技術「ミストCVD法」を発展させ、基材の種類や形状に関係なく金属薄膜を成膜できる非真空ドライめっき技術「ミストドライ めっき法」を開発した。10μm以下の表面形状にも成膜可能で、半導体素子などの電極への応用が見込まれる。
ラティスセミコンダクターは、FPGA用設計ツール「Lattice Diamond」のバージョン3.7を公開したと発表した。ECP5/MachXO2/MachXO3 FPGAファミリーの性能を強化している。
メンター・グラフィックスは、PCB解析検証ツール「HyperLynx」の最新版を発表。SI/PI解析や3D電磁界ソルバ、高速ルーチンチェックなどが単一環境に統合されている。
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