TSMC、Samsung、Intelが明らかにした次世代半導体プロセスの展望

図1 High SpeedのWide NanoSheetだとセルサイズ同等。Low Power向けのNarrow NanoSheetだと同等もしくは縮小が可能。実際に縮小できるかどうかは配線層次第といった感じ

記事に戻る