ナノメートルレベルの超微細デバイスなどにより、ビジネスや生活を大きく変革する可能性を秘めるシリコンフォトニクス。ただ、その製造・検査装置に求められる要求水準は極めて高い。欧米などの事例を交え、その最先端技術に迫る。
微細化、高精度化が進む現代の製造現場においても、特にナノスケールレベルでの精度が求められるシリコンフォトニクス分野。その超微細デバイスの配置やアライメント、アライメント間のプロセスを、効率的に最適化する新たな技術に迫る。
今回は、「シリコンフォトニクス」技術を紹介する。そもそも「シリコンフォトニクス」とは何か、そしてその利点と課題について解説したい。
今回は、シリコンフォトニクスの技術開発ロードマップを解説する。シリコンフォトニクスの性能向上とコストを、16/14nmから5nm、3nmの技術ノードに沿って見ていこう。
今回から、新シリーズとして、光技術や光モジュール開発の動向をお伝えしていく。コロナの影響で停滞していた研究開発もようやく少しずつ再開されているので、それらの成果発表も随時紹介していきたい。
今回から、「シリコンフォトニクス」に関する講演部分を紹介していく。
GlobalFoundries(GF)は2022年3月7日(米国時間)、次世代シリコンフォトニクスプラットフォームとして「GF Fotonix」を発表した。主にデータセンター向けソリューションを対象としたプロセスで、300GHz帯RF CMOSと光学コンポーネントを同一チップ上に集積する、300mmウエハー対応のモノリシックプラットフォームとなる。
Marvell Technology(以下、Marvell)は、クラウドに最適化した最新のシリコンフォトニクスプラットフォーム「400G DR4」の生産体制が整ったことを明らかにした。400G DR4は、増大する帯域幅の需要と人工知能や機械学習に依存した高度なアプリケーションに対応するように設計されている。
提供:ピーアイ・ジャパン株式会社
アイティメディア営業企画/制作:TechFactory編集部/掲載内容有効期限:2022年6月21日